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ハイテクノロジーで未来の一歩をサポートする

TEL. 042-523-2871

〒190-0012 東京都立川市曙町2-16-6テクノビル3F

高機能ポリマー&レジストHigh-performance Polymer & Resist


    

特長
マイクロエレクトロニクス、半導体・電子デバイス、 MEMS用の高機能材料
主要製品
ナノインプリント用ポリマー: 優れた膜質、最小形状<50nm、高度な転写忠実性
ハイブリッド(複合)ポリマー: 高い透明度と高度な転写忠実性、化学・物理安定性、無溶剤
ポジティブ・フォトレジスト: 広域帯の露光に対応、ポストベーク不要、容易な除去
ネガティブ・フォトレジスト: リフトオフプロセス、恒久材として使用可能、粘性調整可能
メーカー
 micro resist technology GmbH
ユーザー事例
NIL Technology (Denmark)
Heidelberg Instruments (Germany)

バナースペース

株式会社エイチ・ティー・エル

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